南亚科技股份有限公司王建忠获国家专利权
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龙图腾网获悉南亚科技股份有限公司申请的专利形成图形化硬遮罩的方法及形成多个导电线的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114446873B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111208602.2，技术领域涉及：H10W20/43；该发明授权形成图形化硬遮罩的方法及形成多个导电线的方法是由王建忠;丘世仰设计研发完成，并于2021-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本形成图形化硬遮罩的方法及形成多个导电线的方法在说明书摘要公布了：一种制造图形化硬遮罩的方法包括:在硬遮罩层上形成多个第一光阻特征；在硬遮罩层上及多个第一光阻特征的两紧邻者之间形成至少一牺牲特征；对多个第一光阻特征执行修整工艺，以形成多个第二光阻特征；以及使用至少一牺牲特征及多个第二光阻特征作为蚀刻遮罩，对硬遮罩层执行蚀刻工艺，其中多个开口形成于硬遮罩层中以获得图形化硬遮罩。借此，可以通过开口狭小的图形化硬遮罩，进而利用图形化硬遮罩形成精细的金属线宽度小于或等于12.5纳米，且仅使用一个图形化硬遮罩就可以形成相当细的金属线。
本发明授权形成图形化硬遮罩的方法及形成多个导电线的方法在权利要求书中公布了：1.一种制造图形化硬遮罩的方法，其特征在于，包括： 在硬遮罩层上形成多个第一光阻特征； 在该硬遮罩层上及相紧邻的两个第一光阻特征之间形成至少一牺牲特征； 对该些第一光阻特征执行修整工艺，以形成多个第二光阻特征；以及 使用该至少一牺牲特征及该些第二光阻特征作为蚀刻遮罩，对该硬遮罩层执行蚀刻工艺，其中多个开口形成于该硬遮罩层中以获得该图形化硬遮罩。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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