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嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心赵丽丽获国家专利权

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龙图腾网获悉嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心申请的专利一种原子层刻蚀机获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224153359U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520236132.8,技术领域涉及:H01J37/32;该实用新型一种原子层刻蚀机是由赵丽丽;寿智云设计研发完成,并于2025-02-13向国家知识产权局提交的专利申请。

一种原子层刻蚀机在说明书摘要公布了:本实用新型属于原子层刻蚀机技术领域,涉及一种原子层刻蚀机,包括:机柜,用于安装各零件;反应室,用于提供反应空间;所述反应室设置于所述机柜内;所述反应室底部设置有插口;反应台,用于承载反应物;所述反应台移动设置于所述反应室内;所述反应台底部设置有支撑条,所述支撑条对应插入或脱离所述插口;紧固件,用于锁紧所述支撑条;所述紧固件移动设置于所述反应室底部,且至少部分插入所述插口内且伸出所述反应室外底壁,并抵紧或脱离所述支撑条。本申请提供的一种原子层刻蚀机采用紧固件将反应台稳定保持在反应室内,防止反应台在气体作用下而发生晃动,影响反应效果。

本实用新型一种原子层刻蚀机在权利要求书中公布了:1.一种原子层刻蚀机,其特征在于,包括: 机柜,用于安装各零件; 反应室,用于提供反应空间;所述反应室设置于所述机柜内;所述反应室底部设置有插口; 反应台,用于承载反应物;所述反应台移动设置于所述反应室内;所述反应台底部设置有支撑条,所述支撑条对应插入或脱离所述插口; 紧固件,用于锁紧所述支撑条;所述紧固件移动设置于所述反应室底部,且至少部分插入所述插口内且伸出所述反应室外底壁,并抵紧或脱离所述支撑条。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人嘉兴中科微电子仪器与设备工程中心,其通讯地址为:314001 浙江省嘉兴市南湖区凌公塘路3339号(嘉兴科技城);或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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