ASML荷兰有限公司J·N·冯塞卡·祖尼尔获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利流体净化系统、投射系统、照射系统、光刻设备和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115701293B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180040349.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权流体净化系统、投射系统、照射系统、光刻设备和方法是由J·N·冯塞卡·祖尼尔;F·J·L·赫茨;黄壮雄;F·梅格海尔布林克设计研发完成，并于2021-04-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本流体净化系统、投射系统、照射系统、光刻设备和方法在说明书摘要公布了：本发明提供用于光学元件30的流体净化系统100，其包括环状件和流体供应系统40。环状件由完全围绕光学元件的主体形成，环状件限定其径向向内并邻近光学元件的空间5。环状件由至少一个第一壁部10和至少一个第二壁部20A；20B形成，其中第一壁部的平均高度大于第二壁部的平均高度。流体供应系统被径向地定位在环状件的外部、并且被配置为供应用于经过至少一个第二壁部到达空间的流体。
本发明授权流体净化系统、投射系统、照射系统、光刻设备和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于光学元件的流体净化系统，包括： 由完全围绕所述光学元件的主体形成的环状件，所述环状件限定其径向向内并邻近所述光学元件的空间，所述环状件由至少一个第一壁部和至少一个第二壁部形成，其中所述第一壁部的平均高度大于所述第二壁部的平均高度； 流体供应系统，其被定位在所述环状件的径向外部、并且被配置为供应用于经过所述至少一个第二壁部而到达所述空间的流体，以及 其中所述至少一个第二壁部具有在径向方向上改变的高度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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