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龙图腾网获悉中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所申请的专利一种显示用负滤光片及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115728853B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211450393.7，技术领域涉及：G02B5/20；该发明授权一种显示用负滤光片及其制作方法是由王一坚;李岳峰;李鹏;陈志航;杨朔设计研发完成，并于2022-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种显示用负滤光片及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明一种显示用负滤光片及其制作方法，属于光学零件薄膜制造技术领域；所述负滤光片的膜系结构为：Sub|LH^8L，其中，Sub为基底，H为M3膜层，L为SiO2膜层。采用本发明膜系结构和制备方法制作的负滤光片实现对中心波长578nm反射，对400nm～520nm和650nm～750nm透射，透反指标满足：1R＝50±1％＠578nm；2T≥90％＠400nm～520nm&&650nm～750nm；3膜层的环境适应性满足光学薄膜国家军用标准。本发明膜系结构简单，层数少，且制备的膜层具有机械强度高、内应力匹配好，与基底结合性能强等优点，可在复杂环境下使用。

本发明授权一种显示用负滤光片及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种显示用负滤光片的制备方法，其特征在于：所述负滤光片的膜系结构为： Sub｜LH^8L 其中，Sub为基底，H为M3膜层，L为SiO2膜层； 光学性能满足：中心波长578nm处反射率50±1%，400-520nm及650-750nm波段平均透射率≥90%； 所述制备方法具体步骤如下： 1清洁基底，并用离子源轰击5～8分钟； 2抽真空至1×10-3Pa； 3镀制第1层膜层，用SiO膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为160nm～170nm； 4镀制第2层膜层，用M3膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强5×10-3Pa，蒸发速率为0.3nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为10nm～15nm； 5镀制第3层膜层，用SiO膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为120nm～130nm； 6镀制第4层膜层，用M3膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强5×10-3Pa，蒸发速率为0.3nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为5nm～10nm； 7镀制第5层膜层，用SiO膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为170nm～180nm； 8镀制第6层膜层，用M3膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强5×10-3Pa，蒸发速率为0.3nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为70nm～80nm； 9镀制第7层膜层，用SiO膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为150nm～160nm； 10镀制第8层膜层，用M3膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强5×10-3Pa，蒸发速率为0.3nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为30nm～36nm； 11镀制第9层膜层，用SiO2膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为125nm～135nm； 12镀制第10层膜层，用M3膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强5×10-3Pa，蒸发速率为0.3nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为18nm～25nm； 13镀制第11层膜层，用SiO2膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为145nm～155nm； 14镀制第12层膜层，用M3膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强5×10-3Pa，蒸发速率为0.3nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为80nm～90nm； 15镀制第13层膜层，用SiO2膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为95nm～105nm； 16镀制第14层膜层，用M3膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强5×10-3Pa，蒸发速率为0.3nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为105nm～115nm； 17镀制第15层膜层，用SiO2膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为240nm～250nm； 18镀制第16层膜层，用M3膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强5×10-3Pa，蒸发速率为0.3nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为40nm～50nm； 19镀制第17层膜层，用SiO2膜料进行蒸镀，蒸镀时真空室压强为1×10-2Pa，蒸发速率为0.8nms，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为80nm～90nm； 真空室冷却至室温后取出镀有负滤光膜系的光学零件，该光学零件为具有Sub｜LH^8L膜系的光学零件，其中Sub代表基底。

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