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龙图腾网获悉成都瑞波科材料科技有限公司申请的专利曝光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116009363B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211619210.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光装置是由阮忠文;王威设计研发完成，并于2022-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本曝光装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种曝光装置，涉及光学曝光装备领域。一种曝光装置，包括：光源，光源用于产生非偏振光；偏振分束器，偏振分束器具有倾斜面，倾斜面设有偏振分束介质膜，偏振分束器用于将沿第一方向入射至偏振分束介质膜的非偏振光分成偏振方向相互垂直的第一线偏振光和第二线偏振光，第一线偏振光透射偏振分束介质膜，用于沿第一方向射向涂有待取向层的基面，第二线偏振光经由偏振分束介质膜反射；光学元件，光学元件用于接收沿第二方向传播的第二线偏振光，并改变第二线偏振光的方向，以使第二线偏振光射向基面。本申请能够解决更换WGP并重复进行多次光配向工艺流程导致生产效率不足等问题。

本发明授权曝光装置在权利要求书中公布了：1.一种曝光装置，其特征在于，包括： 光源10，所述光源10用于产生非偏振光R； 偏振分束器20，所述偏振分束器20具有倾斜面，所述倾斜面设有偏振分束介质膜21，所述偏振分束器20用于将沿第一方向入射至所述偏振分束介质膜21的所述非偏振光R分成偏振方向相互垂直的第一线偏振光P和第二线偏振光S，所述第一线偏振光P透射所述偏振分束介质膜21，用于沿所述第一方向射向涂有待取向层的基面80，所述第二线偏振光S经由所述偏振分束介质膜21反射； 光学元件30，所述光学元件30用于接收沿第二方向传播的所述第二线偏振光S，并改变所述第二线偏振光S的方向，以使所述第二线偏振光S射向所述基面80； 所述曝光装置还包括偏振元件70，所述偏振元件70设置于所述偏振分束器20与所述光学元件30之间； 所述偏振元件70的偏振方向与所述第二线偏振光S的偏振方向成预设旋转角度； 其中，所述偏振元件70为半波片，所述半波片垂直于所述第二线偏振光S的传播方向设置，且所述预设旋转角度为45°，所述第二线偏振光S经过所述半波片后形成第三线偏振光Q，所述第三线偏振光Q的偏振方向与所述第一线偏振光P的偏振方向相同。

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