东洋纺株式会社惠岛明纪获国家专利权
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龙图腾网获悉东洋纺株式会社申请的专利易粘接性聚酯薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116997468B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280021532.6，技术领域涉及：B32B27/36；该发明授权易粘接性聚酯薄膜是由惠岛明纪;应矢量之;山口洋平设计研发完成，并于2022-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本易粘接性聚酯薄膜在说明书摘要公布了：[课题]提供：改善了与硬涂层等功能层的密合性的可靠性的易粘接性聚酯薄膜，提供：适合用于光学用途等的易粘接性聚酯薄膜。[解决方案]一种易粘接性聚酯薄膜，其在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层，所述涂布层是将包含具有多环芳香族骨架的聚酯、和具有选自脂肪族、脂环族、杂环族中的至少一种骨架的交联剂的组合物固化而成的，构成的涂布层的厚度、涂布层的未与聚酯薄膜接触的一侧的涂布层表面的表面自由能、涂布层表面的氮原子比率、涂布层的深度方向上的与氮原子比率有关的特性值满足特定的关系。
本发明授权易粘接性聚酯薄膜在权利要求书中公布了：1.一种易粘接性聚酯薄膜，其在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层，所述涂布层是将包含具有多环芳香族骨架的聚酯、和具有选自脂肪族、脂环族、杂环族中的至少一种骨架的交联剂的组合物固化而成的，涂布层包含氧化锆颗粒， 所述涂布层的厚度d：nm满足下述式1， 所述涂布层的未与聚酯薄膜接触的涂布层表面的表面自由能γs：mNm满足下述式2， 基于X射线光电子能谱法ESCA的、涂布层表面的氮原子比率AN：at%满足下述式3， 基于深度方向的元素分布测定的氮元素的分布曲线中，时间t2秒相对于时间t1秒之比t2t1满足下述式4，所述时间t1是氮原子比率成为下限值ANY：at%的时间，所述时间t2是成为氮原子比率的最大值ANX：at%与所述ANY的中间值ANZ：at%的时间， 30≤d≤200・・・式1 43≤γs≤49・・・式2 3.0≤AN≤9.5・・・式3 t2t1×100≥40・・・式4。
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