中国工程物理研究院激光聚变研究中心严鸿维获国家专利权
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龙图腾网获悉中国工程物理研究院激光聚变研究中心申请的专利一种折射率可调二氧化硅光学薄膜的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117310848B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311266562.6，技术领域涉及：G02B1/11；该发明授权一种折射率可调二氧化硅光学薄膜的制备方法是由严鸿维;刘太祥;杨科;黄林;李昌朋;吕海兵;黄进;张卓;钱宇杰;易聪之设计研发完成，并于2023-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种折射率可调二氧化硅光学薄膜的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学薄膜技术领域，提供了一种折射率可调二氧化硅光学薄膜的制备方法。本发明采用酸为稳定剂，通过加入酸将碱性二氧化硅溶胶的Zeta电位由负电位转变为正电位，之后再和酸性二氧化硅溶胶混合，能够提高酸碱混合二氧化硅溶胶的稳定性，延长其使用寿命。并且，由本发明的酸碱混合二氧化硅溶胶涂膜得到的二氧化硅光学薄膜，折射率可调范围宽，调节范围为1.10～1.44，不仅可以满足折射率为1.21至2.07的光学基底上单层减反膜的制备需求，还可用作多层膜的折射率匹配层，大大拓展了多层膜的光学设计范围。
本发明授权一种折射率可调二氧化硅光学薄膜的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种酸碱混合二氧化硅溶胶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 将碱性二氧化硅溶胶和稳定剂混合，得到稳定化溶胶；所述稳定剂的质量为所述碱性二氧化硅溶胶质量的0.1~5%；所述稳定剂为酸，所述酸的浓度为10~50wt%； 将所述稳定化溶胶和酸性二氧化硅溶胶混合，得到所述酸碱混合二氧化硅溶胶；以所述碱性二氧化硅溶胶和酸性二氧化硅溶胶的总质量为100%计，所述酸性二氧化硅溶胶的质量分数大于0小于100%。
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