沈阳盈芯半导体科技有限公司李国军获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳盈芯半导体科技有限公司申请的专利一种可升降的MPCVD碟形腔体获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224160692U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521106634.5，技术领域涉及：C23C16/511；该实用新型一种可升降的MPCVD碟形腔体是由李国军;牛文浩;宁一龙设计研发完成，并于2025-06-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可升降的MPCVD碟形腔体在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种可升降的MPCVD碟形腔体，涉及气相沉积技术领域，本实用新型旨在解决中心基台高度固定无法满足不同厚度和形状的基底材料的问题，本实用新型包括腔体、中心基台、微波馈入口、石英玻璃和微波电源，所述腔体由底端设置开口的上腔体和顶端设置开口底端封闭的下腔体通过密封圈连接而成。通过可升降式的中心基台代替传统的固定式的中心基台，使中心基台高度可调，适应不同厚度和形状的基底材料。
本实用新型一种可升降的MPCVD碟形腔体在权利要求书中公布了：1.一种可升降的MPCVD碟形腔体，包括腔体、中心基台4、微波馈入口8、石英玻璃6和微波电源7，所述腔体由底端设置开口的上腔体1和顶端设置开口底端封闭的下腔体5通过密封圈连接而成，所述中心基台4设置在上腔体1中，所述中心基台4下方的支柱伸入下腔体5中，所述上腔体1的顶端中心和下方分别设置有进气口3和排气口13，其特征在于：所述下腔体5的底端设置成开口，所述下腔体5的底端通过密封圈依次安装有伸缩组件11和底板，所述中心基台4下方的支柱与底板连接，所述伸缩组件11的一侧安装有能够控制伸缩组件进行伸缩运动的升降机构10。
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