浙江创芯集成电路有限公司王斌超获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利清洁机台获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224165084U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521187558.5，技术领域涉及：H10P72/00；该实用新型清洁机台是由王斌超;夏汇哲设计研发完成，并于2025-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洁机台在说明书摘要公布了：一种清洁机台，包括：清洁池，清洁池内具有晶圆；机械手，适于抓取晶圆并对晶圆进行传输；激光侦测模组，发射端位于清洁池的一侧，接收端位于清洁池的另一侧，发射端与接收端之间光路与机械手所抓取晶圆的位置相对应；第一挡板，位于接收端远离发射端的一侧；第一抗反射层，设置于第一挡板与接收端之间，第一抗反射层适于抑制激光的镜面反射。设置第一抗反射层，避免在晶圆表面发生散射和漫反射的激光入射到第一挡板表面并经第一挡板镜面反射至接收端，减少了接收端接收到的反射光，避免接收端接收到的光过于复杂，使得接收端可通过接收到的来自发射端的激光判断晶圆的位置，从而避免激光侦测模组向机台错误反馈造成机台停机。
本实用新型清洁机台在权利要求书中公布了：1.一种清洁机台，其特征在于，包括： 清洁池，所述清洁池内具有晶圆； 机械手，所述机械手适于抓取所述晶圆并对所述晶圆进行传输； 激光侦测模组，所述激光侦测模组包括发射端与接收端，所述发射端位于所述清洁池的一侧，所述接收端位于所述清洁池的另一侧，所述发射端与所述接收端之间光路与所述机械手所抓取晶圆的位置相对应； 第一挡板，所述第一挡板位于所述接收端远离所述发射端的一侧； 第一抗反射层，所述第一抗反射层设置于所述第一挡板与所述接收端之间，所述第一抗反射层适于抑制所述激光的镜面反射。
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