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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料有限责任公司申请的专利光致抗蚀剂组合物及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115903382B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211196400.5，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光致抗蚀剂组合物及图案形成方法是由刘骢;J·K·朴;J·F·卡梅伦;刘盛;T·阿萨祖玛;李明琦设计研发完成，并于2022-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在说明书摘要公布了：一种光致抗蚀剂组合物，其包含聚合物、光酸产生剂、包含作为内酯环的成环原子的叔碳原子的添加剂和溶剂。

本发明授权光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含： 聚合物； 光酸产生剂； 如下化学式1a或1b的添加剂；以及 溶剂， 1a1b， 其中，在化学式1a和1b中， 和R各自独立地是取代或未取代的C1-3烷基、取代或未取代的C1-20杂烷基、取代或未取代的C3-20环烷基、取代或未取代的C3-20杂环烷基、取代或未取代的C6-20芳基、或取代或未取代的C3-20杂芳基； 和R中的每个任选地进一步包括作为它们结构的一部分选自下组的一个或多个基团：-O-、-CO-、-S-、-SO-和-NR1a-，其中，R1a是氢、取代或未取代的C1-20烷基、取代或未取代的C3-20环烷基、或取代或未取代的C3-20杂环烷基； 3a、R3b、R4a、R4b、R5a和R5b各自独立地是氢、取代或未取代的C1-20烷基、取代或未取代的C1-20杂烷基、取代或未取代的C3-20环烷基、取代或未取代的C3-20杂环烷基、取代或未取代的C6-20芳基、或取代或未取代的C3-20杂芳基，其中，C1-20杂烷基和C3-20杂环烷基各自独立地具有选自O、S、Si、P或其组合的杂原子；以及其中，取代的C1-20烷基被如下基团取代：硝基、氰基、羟基、羧酸或其碱金属或铵盐、卤素、巯基、C1-6烷硫基、C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C1-6卤代烷基、C1-9烷氧基、C1-6卤代烷氧基、C3-12环烷基、C5-18环烯基、C2-18杂环烯基、C6-12芳基、C7-19芳基烷基、C7-12烷基芳基、C3-12杂环烷基、C3-12杂芳基或其组合； R1和R2一起任选地经由单键或二价连接基团形成环；以及 R3a、R3b、R4a、R4b、R5a和或R5b中的任何两个或更多个一起任选地通过单键或二价连接基团形成环基，其中该环基为单环、非稠合多环、或稠合多环的。

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