华阳新兴科技(天津)集团有限公司;天津普罗米新材料有限公司刘阳获国家专利权
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龙图腾网获悉华阳新兴科技(天津)集团有限公司;天津普罗米新材料有限公司申请的专利一种用于双溶剂气相清洗的微波组件芯片清洗剂及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117417795B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311259856.6，技术领域涉及：C11D7/26；该发明授权一种用于双溶剂气相清洗的微波组件芯片清洗剂及其制备方法是由刘阳;冯侠;朱国梅;迟九龙;胡春龙设计研发完成，并于2023-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于双溶剂气相清洗的微波组件芯片清洗剂及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于双溶剂气相清洗的微波组件芯片清洗剂及其制备方法，属于微电子清洗技术领域，所述清洗剂包括以下质量百分比的组分：醇醚类溶剂10‑50%、酯类溶剂1‑10%、含氮及含硫类溶剂1‑10%、抗氧剂T5010‑1%、余量为碳氢溶剂。本发明通过醇醚类溶剂、酯类溶剂、含氮及含硫类溶剂与碳氢溶剂的复配协同，增强对焊迹、油迹、粉尘等污垢的清除能力；制备方法简单，适合大规模的工业化生产；同时有特定的密度及沸点，能与氟系溶剂配合进行微波组件芯片双溶剂气相清洗，解决氟系溶剂虽安全环保，但清洗力较弱，难以满足清洗洁净度要求的问题，也可解决其它清洗方式对裸芯片易造成损伤，影响产品可靠性的难题。
本发明授权一种用于双溶剂气相清洗的微波组件芯片清洗剂及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于双溶剂气相清洗的微波组件芯片清洗剂，其特征在于，所述清洗剂用于与氟系溶剂配合，通过双溶剂气相清洗设备清洗微波组件芯片； 所述清洗剂包括以下质量百分比的组分： 醇醚类溶剂10-50%、酯类溶剂1-10%、含氮及含硫类溶剂1-10%、抗氧剂T5010-1%、余量为碳氢溶剂，且所述碳氢溶剂的沸程范围为180℃-220℃； 所述醇醚类溶剂包括丙二醇丙醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚、2,4-二甲基-2,4-戊二醇或3-甲基-3-甲氧基-1-丁醇中的一种或两种及两种以上的混合物； 所述含氮及含硫类溶剂包括N,N-二乙基甲酰胺或二甲基亚砜中的一种或两种的混合物； 所述碳氢溶剂包括C11正构烷烃或C10-C13异构烷烃中的一种或两种的混合物。
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