彤程化学(中国)有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司夏治国获国家专利权
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龙图腾网获悉彤程化学(中国)有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司申请的专利含有巯基和4-甲基氨基吡啶双官能基团改性硅胶基材料及其在光刻胶树脂制备中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118221123B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211647458.7，技术领域涉及：C01B33/157；该发明授权含有巯基和4-甲基氨基吡啶双官能基团改性硅胶基材料及其在光刻胶树脂制备中的应用是由夏治国;吴旷奇;鲁代仁;董栋;张宁设计研发完成，并于2022-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本含有巯基和4-甲基氨基吡啶双官能基团改性硅胶基材料及其在光刻胶树脂制备中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种含有巯基和4‑甲基氨基吡啶双官能基团改性硅胶基材料及其制备以及其在一类248nm光刻胶用树脂催化合成、去除酸碱性残留杂质、去除金属离子杂质方面的应用。本发明适用于半导体光刻胶用树脂电子化学品合成及提纯技术领域。提供了一种新型含双官能基团的改性硅胶材料，可以用于半导体、显示电子化学品的催化合成与提纯使用，尤其是适用于一类半导体化学放大型光刻胶用树脂的催化合成和提纯金属离子杂质的方法，具有广泛应用前景。
本发明授权含有巯基和4-甲基氨基吡啶双官能基团改性硅胶基材料及其在光刻胶树脂制备中的应用在权利要求书中公布了：1.一种含有巯基和4-甲基氨基吡啶双官能基团的改性硅胶基材料，其特征在于：其结构包括如以下式I、II、III之中的一种或多种： 式I； 式II； 式III。
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