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龙图腾网获悉天津大学申请的专利采用介电谱预测二维分离膜限域传质效率的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119499883B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311075815.1，技术领域涉及：B01D65/10；该发明授权采用介电谱预测二维分离膜限域传质效率的方法是由周凯歌;韩冬;靳晓瑞;翟烨铭;白旭明;高天天设计研发完成，并于2023-08-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本采用介电谱预测二维分离膜限域传质效率的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种采用介电谱预测二维分离膜限域传质效率的方法，包括：S1分别测定水在二维分离膜与参考膜于10‑3～103Hz范围内的介电谱，得到介电弛豫频率后，计算介电弛豫时间；S2根据水在二维分离膜介电弛豫时间τ与参考膜介电弛豫时间τ0的介电弛豫时间比值ττ0判断二维分离膜中水的限域传质效率；当ττ0小于1时，判断二维分离膜对水的限域传质效率高于参考膜；当ττ0大于1时，判断二维分离膜对水的限域传质效率低于参考膜。该方法能够准确预测不同种类的二维分离膜的限域传质效率高低，有效反映水在二维分离膜层间的状态和相对传输速率，为高效分离二维膜的研究提供了技术上的支持。

本发明授权采用介电谱预测二维分离膜限域传质效率的方法在权利要求书中公布了：1.采用介电谱预测二维分离膜限域传质效率的方法，其特征在于， 适用的温度为0~35℃； 所述限域传质效率包括渗透速率； 方法包括： S1分别测定水在二维分离膜与参考膜于10-3~103Hz范围内的介电谱，得到介电弛豫频率后，计算介电弛豫时间；所述介电弛豫频率通过将介电谱曲线以Havriliak-Negami方程拟合得到；所述Havriliak-Negami方程为： 其中，ε'和ε''分别表示介电常数的实部和虚部；ε∞是ε'在无限高频率时的值，Δε表示弛豫强度，即ε'在零频率和无限高频率ε∞之间的差值；τ是特征介电弛豫时间，ω表示角频率；参数α和β用于描述介电函数的偏斜和展宽程度，取值范围为0到1；j代表多个弛豫过程中的不同Havriliak-Negami项； S2根据水在二维分离膜介电弛豫时间τ与参考膜介电弛豫时间τ0的介电弛豫时间比值ττ0判断二维分离膜中水的限域传质效率： 当ττ0小于1时，判断二维分离膜对水的限域传质效率高于参考膜； 当ττ0大于1时，判断二维分离膜对水的限域传质效率低于参考膜； 所述二维分离膜和参考膜为不具有导电性的二维分离膜； 所述参考膜为氧化石墨烯二维膜，所述二维分离膜为阳离子修饰的氧化石墨烯二维膜；或 所述参考膜为云母二维膜，所述二维分离膜为阳离子修饰的云母二维膜；或 所述参考膜为COF二维膜，所述二维分离膜为阳离子修饰的COF二维膜；或 所述参考膜为MOF二维膜，所述二维分离膜为阳离子修饰的MOF二维膜； 所述水为醇水体系中的水。

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