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龙图腾网获悉三星电子株式会社申请的专利嵌入式器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113346008B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110189862.3，技术领域涉及：H10N50/10；该发明授权嵌入式器件是由李吉镐;高宽协;金禹珍设计研发完成，并于2021-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本嵌入式器件在说明书摘要公布了：嵌入式器件包括：第一绝缘层；在第一绝缘层上的第二绝缘层；在第一区域中的第一绝缘层中的下电极接触；第一结构，在第二绝缘层中并接触下电极接触，第一结构具有下电极、磁隧道结和上部电极；第一金属布线结构，穿过在第二区域中的第一和第二绝缘层；在第二绝缘层上的第三绝缘层；位线结构，穿过在第一区域中的第三绝缘层和第二绝缘层，位线结构具有第一高度并接触上电极；以及第二金属布线结构，穿过在第二区域中的第三绝缘层，第二金属布线结构接触第一金属布线结构并具有低于第一高度的第二高度。

本发明授权嵌入式器件在权利要求书中公布了：1.一种嵌入式器件，包括： 在衬底上的第一模制绝缘层，所述衬底包括第一区域和第二区域； 在所述第一模制绝缘层上的第二模制绝缘层； 在所述第一模制绝缘层中的下电极接触，所述下电极接触在所述衬底的所述第一区域上； 第一结构，在所述第二模制绝缘层中并接触所述下电极接触的上表面，所述第一结构包括下电极、磁隧道结MTJ结构和上电极的堆叠； 第一金属布线结构，穿过在所述衬底的所述第二区域中的所述第一模制绝缘层和所述第二模制绝缘层； 在所述第二模制绝缘层上的第三模制绝缘层； 位线结构，包括位线接触和位线并且穿过在所述第一区域中的所述第二模制绝缘层的上部和所述第三模制绝缘层，所述位线结构在垂直方向上具有第一高度并接触所述第一结构的所述上电极；以及 第二金属布线结构，包括第二通路接触和第二金属布线并且穿过在所述第二区域中的所述第三模制绝缘层，所述第二金属布线结构接触所述第一金属布线结构，并且所述第二金属布线结构在所述垂直方向上具有第二高度，所述第二高度小于所述位线结构的所述第一高度， 所述第二通路接触的上表面具有圆形形状，所述圆形形状在彼此垂直的第一方向和第二方向中的每个上具有第一宽度，并且 所述位线接触的上表面具有椭圆形状，所述椭圆形状具有在所述第一方向上的所述第一宽度和在所述第二方向上的第三宽度，所述第三宽度大于所述第一宽度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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