株式会社荏原制作所小寺健治获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社荏原制作所申请的专利基板清洗方法及基板清洗装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114270475B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080057950.1，技术领域涉及：H10P70/00；该发明授权基板清洗方法及基板清洗装置是由小寺健治;内山圭介;山本晓;山野边北斗设计研发完成，并于2020-07-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板清洗方法及基板清洗装置在说明书摘要公布了：本发明关于一种清洗晶片等的基板的基板清洗方法及基板清洗装置。在基板清洗方法中，由多个保持辊6保持基板W的周缘部，通过使多个保持辊6以各自轴心为中心旋转，从而使基板W以其轴心为中心旋转，一边使双流体喷流喷嘴2在基板W的半径方向移动，一边将由第一液体与气体的混合物构成的双流体喷流从双流体喷流喷嘴2导入基板W的表面，在将双流体喷流导入基板W的表面时，将由第二液体构成的扇状喷流从喷雾喷嘴3导入基板W的表面，在基板W的表面上形成第二液体的液流。扇状喷流从双流体喷流离开。
本发明授权基板清洗方法及基板清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种基板清洗方法，其特征在于， 由多个保持辊保持基板的周缘部， 通过使所述多个保持辊以各自轴心为中心旋转，从而使所述基板以该基板的轴心为中心旋转， 一边使双流体喷流喷嘴在所述基板的半径方向移动，一边将由第一液体与气体的混合物构成的双流体喷流从所述双流体喷流喷嘴导入所述基板的表面内的第一区域， 在将所述双流体喷流导入所述基板的表面时，将由第二液体构成的扇状喷流从喷雾喷嘴导入所述基板表面内的第二区域，在所述基板的表面上形成所述第二液体的液流， 所述第二区域与所述第一区域分离， 所述喷雾喷嘴位于所述基板的上方，并在所述第二区域形成朝向所述基板的外侧的所述第二液体的液流， 朝向所述基板的外侧的所述第二液体的液流从所述基板冲走通过所述双流体喷流而从所述基板浮起的微粒子。
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