上海微电子装备(集团)股份有限公司刘亚获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利激光退火装置及激光退火方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114388388B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011126457.9，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权激光退火装置及激光退火方法是由刘亚;周伟;李运锋;苏海业;罗闻设计研发完成，并于2020-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本激光退火装置及激光退火方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种激光退火装置和一种激光退火方法。所述激光退火装置包括振镜模块、聚焦模块和匀光整形模块，振镜模块包括振镜，入射至振镜模块的激光束通过振镜的转动改变出射位置，聚焦模块对从振镜模块出射的激光束进行聚焦，匀光整形模块具有至少一个自由度，通过改变匀光整形模块在所述自由度上的位置以调节所述光斑的像质。通过调整匀光整形模块在所述自由度上的位置，便于调节光斑的像质，从而可以改善由于振镜扫描角度变化引起的光斑形变及像质变差的现象。所述激光退火方法通过调整各个视场点的光斑的像质，以提高激光退火效果。
本发明授权激光退火装置及激光退火方法在权利要求书中公布了：1.一种激光退火装置，其特征在于，包括： 振镜模块，包括振镜，入射至所述振镜模块的激光束通过所述振镜的转动改变出射位置； 聚焦模块，用于对从所述振镜模块出射的激光束进行聚焦，在焦平面形成光斑； 匀光整形模块，具有至少一个自由度，通过改变所述匀光整形模块在所述自由度上的位置以调节所述光斑的像质；其中，所述匀光整形模块包括衍射光学元件和调整单元，所述调整单元用于调整所述衍射光学元件在各个自由度上的位置，通过调整所述衍射光学元件在各个自由度上的位置以对边缘视场的光斑进行补偿，使得所述边缘视场和中心视场的光斑形状相同；所述衍射光学元件具有沿第一方向平移的第一自由度和或沿与所述第一方向垂直的第二方向上平移的第二自由度，通过控制所述调整单元分别调整所述衍射光学单元在所述第一方向和或所述第二方向的偏心量以对边缘视场的光斑进行补偿，所述第一方向和所述第二方向组成的平面垂直于入射所述匀光整形模块的激光束方向。
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