AP系统股份有限公司朴俊雨获国家专利权
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龙图腾网获悉AP系统股份有限公司申请的专利溅射设备以及使用其的溅射方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114763601B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210032289.X，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权溅射设备以及使用其的溅射方法是由朴俊雨;李大龙;尹盛俊;赵元基设计研发完成，并于2022-01-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本溅射设备以及使用其的溅射方法在说明书摘要公布了：本公开涉及一种改善待沉积物体上的沉积均匀性的溅射设备及溅射方法。所述溅射设备可包括：外旋转轴，具有管状形状；内旋转轴，设置在外旋转轴的中空部分中，以独立于外旋转轴旋转；第一臂，连接到外旋转轴及内旋转轴中的一个旋转轴，且通过所述一个旋转轴的旋转而围绕所述一个旋转轴旋转；第二臂，设置在第一臂的一侧处，以通过外旋转轴及内旋转轴中的另一旋转轴的旋转而围绕第一臂的一侧旋转；以及第一磁体组件，连接到第二臂的一侧。
本发明授权溅射设备以及使用其的溅射方法在权利要求书中公布了：1.一种溅射设备，包括： 外旋转轴，具有管状形状； 内旋转轴，设置在所述外旋转轴的中空部分中，以独立于所述外旋转轴旋转； 第一臂，连接到所述外旋转轴及所述内旋转轴中的一个旋转轴，且通过所述一个旋转轴的旋转而围绕所述一个旋转轴旋转； 第二臂，设置在所述第一臂的一侧处，以通过所述外旋转轴及所述内旋转轴中的另一旋转轴的旋转而围绕所述第一臂的一侧旋转；以及 第一磁体组件，连接到所述第二臂的一侧， 其中所述溅射设备还包括控制单元，所述控制单元被配置成独立控制所述外旋转轴及所述内旋转轴中的每一者的旋转，以调节所述第一臂及所述第二臂中的每一者的旋转速度， 其中所述控制单元根据时间将工艺分成前半部分及后半部分两个工艺，且 其中所述控制单元控制： 所述外旋转轴及所述内旋转轴在所述工艺的所述前半部分中具有相同的旋转速度；以及 所述外旋转轴及所述内旋转轴在所述工艺的所述后半部分中具有不同的旋转速度。
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