苏州苏瑞膜纳米科技有限公司杨国勇获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州苏瑞膜纳米科技有限公司申请的专利一种高稳定性易储存低压反渗透膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117282279B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311242005.0，技术领域涉及：B01D69/12；该发明授权一种高稳定性易储存低压反渗透膜及其制备方法是由杨国勇设计研发完成，并于2023-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高稳定性易储存低压反渗透膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及反渗透膜领域、具体公开了一种高稳定性易储存低压反渗透膜及其制备方法,所述高稳定性易储存低压反渗透膜包含聚砜基膜、聚酰胺功能层，所述聚酰胺功能层由包含有机胺类物质的水相和包含酰氯类物质的油相通过界面缩聚反应制成，所述水相还包括硅烷改性的氨基聚乙二醇多巴胺和抗氧化剂；本申请的反渗透膜利用化学交联改性和添加抗氧化剂的方法，避免低压反渗透膜在储存时稳定性差，膜片放置后性能下降。
本发明授权一种高稳定性易储存低压反渗透膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高稳定性易储存低压反渗透膜，其特征在于：所述高稳定性易储存低压反渗透膜包含聚砜基膜、聚酰胺功能层，所述聚砜基膜由包含聚砜的铸膜液制成，所述聚酰胺功能层由包含有机胺类水相单体的水相溶液和包含酰氯类油相单体的油相溶液制成，所述水相溶液还包括硅烷偶联剂改性的氨基聚乙二醇多巴胺。
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