江苏奥首材料科技有限公司侯军获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏奥首材料科技有限公司申请的专利一种芯片化学机械抛光后清洗剂、其制备方法与用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117721474B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311746934.5，技术领域涉及：C23G1/20；该发明授权一种芯片化学机械抛光后清洗剂、其制备方法与用途是由侯军;吕晶;任浩楠;刘稳;赖鑫设计研发完成，并于2023-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种芯片化学机械抛光后清洗剂、其制备方法与用途在说明书摘要公布了：本发明涉及一种芯片化学机械抛光后清洗剂，按照重量份计算，包括如下组分：功能剂1‑10份；缓蚀剂0.1‑0.5份；添加剂1‑5份；酰胺1‑10份；超纯水80‑90份；本发明还公开了该清洗剂的制备方法与用途。本发明利用功能剂对铜离子的强螯合能力来去除铜离子，利用缓蚀剂优先吸附特性，使其在铜表面形成保护膜，抑制清洗剂对铜表面的腐蚀。二者组成的复合使用在不腐蚀铜表面的前提下，有效去除氧化铜。此外添加剂中的苄氧羰基还可以保护功能剂中胺基不被破坏，以确保铜表面保护膜的稳定存在。
本发明授权一种芯片化学机械抛光后清洗剂、其制备方法与用途在权利要求书中公布了：1.一种芯片化学机械抛光后清洗剂，其特征在于，按照重量份计算，包括如下组分： 功能剂1-10份； 缓蚀剂0.1-0.5份； 添加剂1-5份； 酰胺1-10份； 超纯水80-90份； 所述的功能剂为6-羟基喹喔啉、2-溴喹喔啉、2-4-溴苯基喹喔啉、4-喹喔啉-2-基-苯胺及2-2'-喹喔啉基-4,4,5,5-四甲基咪唑啉-3-氧化-1-氧基自由基一种或几种； 所述的缓蚀剂为3'-氯甲基-4'-羟基苯乙酮，4-苄氧基-3-硝基苯乙酮，1-{4-乙酰氧基-3-[乙酰氧基甲基]苯基}乙酮一种或几种； 所述的添加剂为N-乙酰-L-脯氨酸、N-2,4-二硝基苯-L-脯氨酸、N-[3-乙酰巯基-2S-甲基丙酰基]-L-脯氨酸、N-苄氧羰基-L-脯氨酸一种或几种。
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