常州大学陈若愚获国家专利权
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龙图腾网获悉常州大学申请的专利一种线性高聚硅烷增强的耐磨减反射涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117924979B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410036052.8，技术领域涉及：C09D1/00；该发明授权一种线性高聚硅烷增强的耐磨减反射涂层及其制备方法是由陈若愚;胡良;贾倩;刘小华设计研发完成，并于2024-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种线性高聚硅烷增强的耐磨减反射涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于涂层技术领域，具体涉及一种线性高聚硅烷增强的耐磨减反射涂层及其制备方法。以正硅酸四乙酯和甲基三乙氧基硅烷甲基三甲氧基硅烷为共先驱体，在碱性条件下，采用溶胶‑凝胶法合成碱性网络状硅溶胶，以聚甲基氢硅氧烷为硅源，在催化剂作用下合成线性高聚硅溶胶，然后将两种硅溶胶混合并进行陈化、除氨后，得到中性的混合溶胶，利用浸渍‑提拉法在高硼硅玻璃表面镀制双面减反射涂层，最后在550℃的马弗炉中煅烧2h得到耐磨减反射涂层。制备的减反射涂层透过率高，耐磨性能良好，制备过程中避免了酸的使用，防止了对生产设备的腐蚀和环境的污染，生产操作绿色环保。
本发明授权一种线性高聚硅烷增强的耐磨减反射涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种线性高聚硅烷增强的耐磨减反射涂层，其特征在于，所述耐磨减反射涂层的制备方法步骤如下： 1以无水乙醇EtOH作为溶剂，氨水NH4OH作为催化剂，正硅酸四乙酯TEOS和甲基三乙氧基硅烷MTES甲基三甲氧基硅烷MTMS为硅源，采用溶胶-凝胶法制备碱性网络状硅溶胶； 以无水乙醇EtOH作为溶剂，Karstedt作为催化剂，聚甲基氢硅氧烷PMHS为硅源，采用溶胶-凝胶法制备线性高聚硅溶胶； 2称取碱性网络状硅溶胶与线性高聚硅溶胶混合，陈化，除氨，制备稳定均匀的混合溶胶； 3将步骤2得到的混合溶胶采用浸渍-提拉法镀制到玻璃基底上，然后将其放入马弗炉中煅烧，得到耐磨减反射涂层。
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