珠海基石科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉珠海基石科技有限公司申请的专利抗反射组合物、抗反射膜、图案化方法、图案化基底、半导体器件及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119978922B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510261533.3，技术领域涉及：G03F1/46；该发明授权抗反射组合物、抗反射膜、图案化方法、图案化基底、半导体器件及其制备方法是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本抗反射组合物、抗反射膜、图案化方法、图案化基底、半导体器件及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了抗反射组合物、抗反射膜、图案化方法、图案化基底、半导体器件及其制备方法。将该抗反射组合物形成的膜层应用在半导体器件的制程中，不仅可以有效减少感光材料膜下层的衬底等部件对光源的反射和衍射，还可进一步降低图案化膜的线宽粗糙度，改善图案化膜的白边现象。
本发明授权抗反射组合物、抗反射膜、图案化方法、图案化基底、半导体器件及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种抗反射组合物，其特征在于，包括树脂、添加剂以及溶剂；所述树脂包括聚羟基苯乙烯类树脂、聚酯类树脂以及聚丙烯酸酯类树脂中的一种或多种；所述聚羟基苯乙烯类树脂包括衍生自羟基苯乙烯的结构单元，且所述聚酯类树脂、所述聚丙烯酸酯类树脂均具有含羟基的结构单元；所述衍生自羟基苯乙烯的结构单元以及所述含羟基的结构单元的质量之和占所述树脂的总质量的10%-50%； 所述添加剂包括第一添加剂；所述第一添加剂包括吡唑、吡咯、四氢吡咯、嘧啶、嘌呤、腺嘌呤和6-羟基嘌呤中的一种或多种； 所述添加剂的质量小于或等于所述树脂的总质量的0.05%。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人珠海基石科技有限公司，其通讯地址为：519050 广东省珠海市金湾区南水镇南水社区南港中路18号1栋602室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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