三峡大学黄应平获国家专利权
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龙图腾网获悉三峡大学申请的专利F、Pd修饰单晶BiVO4光催化剂及其光催化降解草甘膦协同产H2O2中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121607168B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610145007.5，技术领域涉及：B01J27/13；该发明授权F、Pd修饰单晶BiVO4光催化剂及其光催化降解草甘膦协同产H2O2中的应用是由黄应平;石海洋;丁少淇;黄笛设计研发完成，并于2026-02-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本F、Pd修饰单晶BiVO4光催化剂及其光催化降解草甘膦协同产H2O2中的应用在说明书摘要公布了：本发明提供F、Pd修饰单晶BiVO4光催化剂及其光催化降解草甘膦协同产H2O2的应用。取单晶BiVO4粉末分散于去离子水溶液中，制得悬浮液；将氟化物溶液加入上述悬浮液中，光照下搅拌一定时间、洗涤烘干后得到F‑修饰在单晶BiVO4富集光空穴的110晶面的光催化剂BiVO4‑F‑110；将BiVO4‑F‑110分散到甲醇水溶液中，加入一定量的氯化钯水溶液，持续通入Ar，除去悬浮液中溶解的O2，然后在搅拌条件下进行光照处理；光照结束后，将所得沉淀洗涤烘干即得光催化剂。在单晶钒酸铋的富空穴晶面选择性修饰F离子能够促进草甘膦吸附进而有效捕获光生空穴，Pd负载010晶面能够有效增强O2还原产H2O2，进而实现污染物降解与H2O2合成的协同增效。
本发明授权F、Pd修饰单晶BiVO4光催化剂及其光催化降解草甘膦协同产H2O2中的应用在权利要求书中公布了：1.一种F、Pd修饰单晶BiVO4光催化剂的制备方法，其特征在于：该光催化剂的制备步骤如下： 1取单晶BiVO4粉末分散于水溶液中，制得悬浮液； 2将适量F离子源溶液加入步骤1所得悬浮液中，光照下搅拌混匀； 3步骤2光照结束后，将所得沉淀洗涤烘干后得到F-修饰在单晶钒酸铋富集光空穴的110晶面，形成BiVO4-F-110光催化剂； 4将步骤3制备的BiVO4-F-110光催化剂分散到甲醇水溶液中，加入钯源溶液，持续通入Ar，除去悬浮液中溶解的O2，然后在搅拌条件下进行光照处理； 5步骤4光照结束后，将所得沉淀洗涤烘干后即得单晶钒酸铋空穴晶面修饰F及电子晶面修饰Pd光催化剂Pd-010-BiVO4-F-110。
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