星奇(上海)半导体有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉星奇(上海)半导体有限公司申请的专利气密腔体的阀体结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224214785U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520961615.4,技术领域涉及:F16K27/00;该实用新型气密腔体的阀体结构是由请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成,并于2025-05-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本气密腔体的阀体结构在说明书摘要公布了:本申请提供一种气密腔体的阀体结构,其中,插入孔从阀体外部围绕腔体容纳件向内凹设有限位槽;密封圈套设腔体容纳件置于限位槽中,密封圈分别抵接限位槽周向上的侧壁和腔体容纳件周向上的侧壁,以使密封圈密封插接腔体容纳件的插入孔。本申请通过设置限位槽,并在限位槽中设置密封圈,密封圈位于限位槽侧壁和腔体容纳件之间,以密封插接腔体容纳件的插入孔,以使阀体结构形成气密腔体,进而提高腔室的密封性,降低腔室的漏率;当该阀体结构应用于真空系统时,可以使腔室的真空度保持较高水平。
本实用新型气密腔体的阀体结构在权利要求书中公布了:1.一种气密腔体的阀体结构,其特征在于,包括阀体、腔体容纳件以及密封圈; 所述阀体内部具有腔室,且所述阀体上开设有连通腔室的插入孔,所述腔体容纳件插接所述插入孔连接到腔室内部; 所述插入孔从所述阀体外部围绕所述腔体容纳件向内凹设有限位槽; 所述密封圈套设所述腔体容纳件置于所述限位槽中,所述密封圈分别抵接所述限位槽周向上的侧壁和所述腔体容纳件周向上的侧壁,以使所述密封圈密封插接所述腔体容纳件的所述插入孔。
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