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  • 本申请公开了一种保护盖板的返工方法,属于显示技术领域。该保护盖板的返工方法包括:将待返工的保护盖板浸泡在退镀剂中,之后对保护盖板进行第一加热处理,以软化盖板本体的第一侧设置的第一镀层结构,且软化盖板本体的第二侧设置的第二镀层结构,进而退镀剂...
  • 本发明公开了一种提高金属材料强度的方法,包括以下步骤:S1:金属基材精细化预处理;S2:低温等离子体轰击改性;S3:梯度掺杂预处理;S4:超声辅助界面融合;S5:动态时效强化;S6:梯度降温应力调控;S7:后处理。本发明中低温等离子体轰击改...
  • 本申请公开了一种基于Cr层的TiAlN/CrAlSiN纳米多层复合涂层及制备方法,制备方法采用电弧离子镀技术沉积涂层,制备方法包括如下工艺步骤:S1,工件表面前处理;S2,真空镀膜机抽真空及加热;S3,工件表面刻蚀;S4,沉积Cr层;S5,...
  • 本发明公开的切割刀具的镀膜方法包括:清洗切割刀具的表面后将所述切割工具置于真空腔室内;在所述切割刀具的表面上沉积形成碳保护膜;在所述碳保护膜上沉积钛‑碳复合膜;以及在所述钛‑碳复合膜上沉积类金刚石碳膜。该方法可修复切割刀具表面的披锋、划痕等...
  • 本发明涉及高保真电声器件制造技术领域,具体提供了一种具备冗余式绝缘镀层的钛合金耳机外壳及其制备方法,其中,所述方法包括:S1、对经前处理的导电金属耳机外壳基体,在真空镀膜设备中沉积第一复合绝缘镀层,得到第一工件;S2、将第一工件相对于首次沉...
  • 一种钛合金双极板复合涂层及其制备方法,属于燃料电池技术领域。包括钛合金基板和包覆在钛合金基板表面的氮化钛和氮化铌复合涂层,氮化铌相结构是由β‑Nb2N和δ‑NbN组成的两相共存结构。复合涂层的沉积过程中,在氩气和氮气气氛下,以钛合金基板为沉...
  • 本发明公开了一种强耐蚀低摩擦超耐磨蚀的多主元涂层及其制法与应用。所述多主元涂层具有梯度结构与纳米异质结构;所述梯度结构为涂层在远离基体的方向上晶粒的平均粒径逐渐减小;所述纳米异质结构包括三维岛状非晶区和三维岛状纳米晶区,所述多主元涂层中均匀...
  • 本发明公开了真空调压蝶阀的耐腐蚀处理工艺,该工艺用于真空调压蝶阀,真空调压蝶阀包括阀体、阀芯和阀板,包括以下步骤:S1、设计加工:设计真空调压蝶阀的阀体、阀芯和阀板并进行相应的机械加工;S2、去毛刺:在S1中的机械加工完成的阀体、阀芯和阀板...
  • 本发明公开了一种抗海洋高温含氯环境腐蚀的MCrAlY复合防护涂层及其制备方法。MCrAlY复合防护涂层自基体向外依次为富Al金属间化合物M‑A层、MAX相活性Al源层及MCrAlY表层。MAX相层呈{110}面族择优取向且A位原子层法向与涂...
  • 本申请公开了一种复合结构热障涂层及其制备方法和应用。提供的复合结构热障涂层,包含依次层叠的粘结层、复合陶瓷层和致密薄层;其中,致密薄层的孔隙率小于3%,致密薄层的厚度为20μm~60μm。提供的复合结构热障涂层的致密薄层孔隙率小于3%,在1...
  • 本发明涉及蒸发舟技术领域,公开了一种蒸发舟装卸装置,其包括固定底座、活动底座、弹性件和推动机构。蒸发舟安装过程中,先通过推动机构驱动活动底座远离固定底座,再将蒸发舟放置到活动底座与固定底座之间,活动底座复位后即可夹紧蒸发舟,可以有效防止蒸发...
  • 本发明公开了一种亚5纳米金属间隙阵列及其制备方法。所述基体包括:基底层,以及设置于所述基底层上周期性排列的金属纳米结构阵列,所述金属纳米结构由第一金属层构成;所述金属纳米结构的侧壁包覆有第二金属层,所述第二金属层与所述第一金属层之间为侧向纳...
  • 本发明涉及光学薄膜制备技术领域,具体涉及一种深紫外宽光谱铝反射膜及其制备方法。该方法包括以下步骤:基底清洗和活化处理;真空镀膜;在基底表面依次沉积Si膜、Al膜、Si3N4膜和AlF3膜;退火处理。所述Si膜的厚度为10~20nm,所述Si...
  • 本发明提供一种蒸发源结构、蒸镀装置和蒸发源的控制方法,蒸发源结构包括至少一个蒸发单元,所述蒸发单元包括:第一坩埚和第二坩埚,所述第一坩埚和所述第二坩埚内容纳相同的蒸镀材料;喷嘴组件,包括罩设于所述第一坩埚和所述第二坩埚上方的盖体,以及设置于...
  • 本申请涉及蒸镀领域,公开一种蒸镀装置,该蒸镀装置包括磁体总成、吸盘总成和驱动机构。磁体总成包括磁体组件,吸盘总成包括静电吸盘,磁体组件和静电吸盘沿重力方向间隔设置;磁体组件与吸盘总成之间连接有弹性支撑结构;驱动机构与磁体总成传动连接,用于驱...
  • 本发明涉及半导体光电探测器制造技术领域,特别是一种紫外光电探测器的制备系统及方法,包括沉积单元,沉积单元包括,Ga2O3靶托,其设于真空腔内;Si衬底台,其设于真空腔内,并位于Ga2O3靶托的沉积路径上;激光器,其光路指向Ga2O3靶托的表...
  • 本申请公开一种真空镀膜设备。真空镀膜设备包括镀膜腔室、设置在所述镀膜腔室内部的转运装置和镀膜源,通过磁力耦合无接触方式驱动转运装置移动,并且在宽度方向两侧分别配置定位导向结构和平面接触配合,通过定位导向结构能够实现精准定位和导向,以及平面接...
  • 本发明公开一种可见光‑红外兼容隐身ITO薄膜及其制备方法,涉及ITO透明导电薄膜材料技术领域。本发明的制备方法包括:(1)初始段溅射;(2)过渡段溅射;(3)终止段溅射;(4)分段退火处理。本发明通过动态调控氢氩混合气氛与分段退火工艺,实现...
  • 本发明涉及一种薄膜沉积系统、薄膜沉积控制方法,涉及真空镀膜技术领域,其中,离子源装置以及磁控阴极位于载板的同一侧,且在第一方向上排布,且离子源装置的开口朝向磁控阴极,离子源装置产生的第一等离子体与磁控阴极产生的第二等离子体进行耦合,产生耦合...
  • 本发明公开了一种用于玻璃基板的高磁性复合膜层及其制备方法和应用,属于功能性涂层材料与表面工程技术领域。本发明解决了磁性复合膜层与玻璃基板结合力低、内应力强,无法实现较大厚度和高饱和磁化强度的问题。本发明采用磁控溅射技术在玻璃基底表面依次沉积...
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