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五金工具产品及配附件制造技术
  • 一种飞秒激光结合热氧化复合处理ZrNb合金的方法
    一种飞秒激光结合热氧化复合处理ZrNb合金的方法_河北工业大学_202410868722.2
    本发明为一种飞秒激光结合热氧化复合处理ZrNb合金的方法。该方法包括以下步骤：将经过线切割和处理的工件固定在电动位移平台上，激光束透过聚焦镜作用在工件表面，通过改变扫描速度，激光频率，激光功率来调控飞秒激光参数，从而获得LIPSS结构、Gr...
    2026-04-28
  • 一种卡具
    一种卡具_北京创思镀膜有限公司_202520767389.6
    本实用新型涉及元件夹持技术领域，提供一种卡具。该卡具包括底座、盖板和中心遮挡部件。底座设有镀膜孔，镀膜孔的内壁设有搭边，镀膜孔与搭边配合围成限位空间，限位空间用于限位光学元件；盖板设于底座的一侧，盖板用于遮挡光学元件的背面；中心遮挡部件设于...
    2026-04-28
  • 一种金属基材表面抗菌减摩复合涂层及其制备方法
    一种金属基材表面抗菌减摩复合涂层及其制备方法_湖州学院_202511987017.5
    本发明涉及一种金属基材表面抗菌减摩复合涂层及其制备方法，属于真空沉积技术领域。本发明通过多弧离子镀工艺在金属基体表面构建"钒金属打底层‑梯度过渡层‑钒银碳复合层"的分层结构。通过梯度过渡降低界面应力，中间层提供抗菌离子储备，顶层缓释抗菌，结...
    2026-04-28
  • 一种喷淋装置及沉积镀膜设备
    一种喷淋装置及沉积镀膜设备_江苏微导纳米科技股份有限公司_202610131881.3
    本发明公开一种喷淋装置及沉积镀膜设备，其中，该喷淋装置包括喷淋部件和抽气部件，所述喷淋部件包括喷淋盘，所述喷淋盘设置有喷淋孔，所述抽气部件安装于所述喷淋盘的中部区域，所述抽气部件被配置为能够用于抽气。上述喷淋装置可改善反应气体中部聚集的情况...
    2026-04-28
  • 一种电场辅助爆炸喷涂设备和方法
    一种电场辅助爆炸喷涂设备和方法_浙江巴顿焊接技术研究院_202311526962.6
    本发明涉及一种电场辅助爆炸喷涂设备和方法，包括绝缘体、小爆炸室和主反应室；小爆炸室通过喷射通道、环形腔室和爆炸燃烧产物环形分流室与主反应室相连；小爆炸室内设有可燃气体第一进气道、可燃气体第二进气道和火花塞；主反应室上部设有可燃气体第三通道、...
    2026-04-28
  • 不锈钢表面的FeAl涂层制备方法
    不锈钢表面的FeAl涂层制备方法_厦门海洋职业技术学院_202610170113.9
    本发明涉及FeAl涂层制备技术领域，尤其涉及一种不锈钢表面的FeAl涂层制备方法，包括：基于FeAl涂层的构型指数确定Fe箔和Al箔的交叠铺设策略以形成多层预制胚体；基于多层预制胚体的胚层结合指数确定制备的多层预制胚体是否合格；将合格的多层...
    2026-04-28
  • 一种往复高温镀膜工艺槽
    一种往复高温镀膜工艺槽_珠海普伊特自动化系统有限公司_202610215839.X
    本发明公开了一种往复高温镀膜工艺槽。该工艺槽包括：槽体、溅射镀膜部、第一加热部、第二加热部、滚筒输送部及载具；槽体内腔分隔为溅射镀膜腔以及位于溅射镀膜腔两端的左加热腔、右加热腔，溅射镀膜腔通过两个隔板的连通端口连通左加热腔、右加热腔；溅射镀...
    2026-04-28
  • 观察窗结构及PVD设备
    观察窗结构及PVD设备_合肥华晟光伏科技有限公司_202521079327.2
    本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种观察窗结构及PVD设备。观察窗结构包括连接壳体，其内部具有安装空间，连接壳体包括位于安装空间的相对两侧的第一连接侧和第二连接侧，第二连接侧用于与PVD设备的真空腔室密封连接安装；和观察窗本体，其通过安装...
    2026-04-28
  • 一种复合碳材料及其制备方法
    一种复合碳材料及其制备方法_中电化合物半导体有限公司_202410454494.4
    本发明提供一种复合碳材料及其制备方法，所述制备方法至少包括：提供一碳基体；将含钽化合物与有机溶剂混合，得到含钽浆料；将所述含钽浆料均匀覆盖在所述碳基体的表面，在所述碳基体上得到反应层；将钽粉均匀覆盖在所述反应层上，在所述反应层上得到钽金属涂...
    2026-04-28
  • 一种带有微调功能的镀膜夹具
    一种带有微调功能的镀膜夹具_常州锐星源真空科技有限公司_202520942741.5
    本实用新型公开了一种带有微调功能的镀膜夹具，属于镀膜技术领域，包括立架，立架的内侧开设有圆形槽，圆形槽的内部转动连接有转动杆，转动杆的一端固定连接有滑动杆，滑动杆两侧的端部均固定连接有连接块，连接块的内部转动连接有调节组件；通过设置的调节组...
    2026-04-28
  • 一种高效制备Te同位素靶的方法及系统
    一种高效制备Te同位素靶的方法及系统_中国原子能科学研究院_202610169838.6
    本发明涉及一种高效制备Te同位素靶的方法及系统，包括：将盛装有Te同位素粉末的蒸发坩埚置于真空蒸镀装置内，采用蒸发沉积镀膜工艺制备Te同位素靶；测量单次蒸镀后制得的Te同位素靶的厚度；若靶厚度低于物理实验要求的范围，则向蒸发坩埚内进一步添加...
    2026-04-28
  • 一种高精度铜合金线材连续镀锡机构
    一种高精度铜合金线材连续镀锡机构_扬州钰祥电工材料有限公司_202521038004.9
    本实用新型公开了一种高精度铜合金线材连续镀锡机构，属于铜合金线材镀锡技术领域，该高精度铜合金线材连续镀锡机构，包括支撑机构和穿线机构，所述支撑机构上焊接固定有用于对线材进行镀锡的热镀锡机构，所述热镀锡机构上栓接有用于将线材浸入锡液中的穿线机...
    2026-04-28
  • 一种高利用率磁控溅射靶
    一种高利用率磁控溅射靶_山东沐东真空科技有限公司_202610101132.6
    本发明公开了一种高利用率磁控溅射靶，涉及到磁控溅射靶技术领域，其包括壳体，该磁控溅射靶还包括：底板，所述底板安装在壳体的底部，底板的底部固定安装有导电杆；顶盖，所述顶盖安装在壳体的顶部，顶盖的内部开设有腔室；背板，所述背板转动连接在壳体的顶...
    2026-04-28
  • 一种PVD遮蔽挂具盘
    一种PVD遮蔽挂具盘_安徽多晶涂层科技有限公司_202521090846.9
    本实用新型提供一种PVD遮蔽挂具盘，包括固定盘，所述固定盘的上方等距嵌合活动安装有可伸缩调节的伸缩杆，且伸缩杆为多根依次嵌套设置，多根所述伸缩杆上均等距贯穿有用于挂具安装的插孔，所述伸缩杆的外侧均设有多个遮蔽杆和挂载杆。通过将插杆插入伸缩杆...
    2026-04-28
  • 一种大阈值电压的常闭型氮化镓集成器件及其制备方法
    一种大阈值电压的常闭型氮化镓集成器件及其制备方法_南通大学_202211645868.8
    本发明公开了一种大阈值电压的常闭型氮化镓集成器件及其制备方法，包括自下而上依次层叠的碳化硅衬底层、氮化铝成核层、弛豫层A、弛豫层B、铝镓氮缓冲层、氮化镓沟道、铝镓氮势垒层；铝镓氮势垒层表面两端设有源极和漏极，铝镓氮势垒层表面设有隔离的绝缘层...
    2026-04-28
  • 有助于维持血糖健康水平组合物在配方奶粉中的应用
    有助于维持血糖健康水平组合物在配方奶粉中的应用_广州市美素力营养品有限公司_202510259752.8
    本发明公开了一种有助于维持血糖健康水平组合物在配方奶粉中的应用。所述有助于维持血糖健康水平组合物的原料包括葛根粉、黄芪粉、甘草粉、百合粉、姜黄粉、山楂粉、桑叶粉、马铃薯粉、山药粉、人参粉、低聚异麦芽糖、氧化锌、氧化镁、维生素D3、鱼油粉，其...
    2026-04-28
  • 用于有机发光二极管的沉积设备
    用于有机发光二极管的沉积设备_株式会社LG化学_202180051514.8
    本发明涉及一种用于有机发光二极管的沉积设备，并且更具体地，涉及一种其中借助于辅助室独立地执行沉积材料的维护操作并且因此减少用于沉积材料的评估时间的用于有机发光二极管的沉积设备。
    2026-04-28
  • 一种利用微波沉积等离子源的辅助装置
    一种利用微波沉积等离子源的辅助装置_成都极星等离子科技有限公司_202521055042.5
    本实用新型属于等离子沉积技术领域，公开了一种利用微波沉积等离子源的辅助装置，包括真空炉体和辅助等离子源，所述真空炉体的内腔呈圆柱形，真空炉体内安装有放置工件的转架，辅助等离子源与真空炉体连接，所述辅助等离子源包括波导管，波导管的能量从左侧注...
    2026-04-28
  • 含高速率磁控溅射靶枪的多靶位共溅射设备及溅射方法
    含高速率磁控溅射靶枪的多靶位共溅射设备及溅射方法_中国科学院金属研究所_202510669826.5
    本发明公开了一种含高速率磁控溅射靶枪的多靶位共溅射设备及溅射方法，具体涉及薄膜制备技术领域。一种含高速率磁控溅射靶枪的多靶位共溅射设备，包括：反应腔室，由腔体壁、腔体底和腔体盖组成；腔体底设有四个倾斜两寸靶材磁控溅射组件和两个水平四寸靶材磁...
    2026-04-28
  • 一种具有高极限工作温度的金属纳米薄膜电极的制备方法
    一种具有高极限工作温度的金属纳米薄膜电极的制备方法_江南大学_202310969926.0
    本申请公开了一种具有高极限工作温度的金属纳米薄膜电极的制备方法，涉及纳米薄膜电极领域，该方法在真空镀膜腔室中，利用多靶位电子束蒸发镀膜仪使用金属靶材在硅片基底表面制备纳米级厚度的金属纳米薄膜，然后切换至使用铝靶材，并利用多靶位电子束蒸发镀膜...
    2026-04-28
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